关闭

帖子主题:光刻机发展路线图

共 110 个阅读者 

  • 军衔:陆军大校
  • 军号:2954327
  • 工分:287874 / 排名:5115
左箭头-小图标

光刻机发展路线图

光刻机发展路线图光刻机发展路线图

      打赏
      收藏文本
      0
      0
      2020/8/16 12:36:02

      网友回复

      • 头像
      • 军衔:陆军大校
      • 军号:2954327
      • 工分:288366 / 排名:5109
      • 本区职务:会员
      左箭头-小图标

      英雄火线寒风啸,弄臣枯冢蜚声存。

      当年功勋卓著的45所光刻机团队,也就是现在的上微天天挨骂。反一个狗屁成果没有,最后半途而废武汉无线电三厂,倒是成了扶大厦之将倾的孔明。

      悲哀呀,悲哀呀。有些人所谓的重视科技,就是一边揪着所谓的“造不如买”大批特批,另一边则是要把当年科学家和工程师们汗水的结晶,都要从历史上抹掉吗!

      你们这些自媒体有没有点人心啊

      上世纪部分国产光刻机:

      型号名称 研发部门 交付时间 类型 制程

      GK-3 电科45所 1977 半自动接触式 5μm-6μm

      GK-4 电科45所 1978 半自动接触式 5μm-6μm

      JK-1 上海光机所 1981 半自动接近式 2.25μm-3μm

      KHA75-1 中科院109厂等 1981 半自动接近/接触式 无详细数据

      BG-101 电科45所 1984 直接分步曝光 2μm

      无型号名 上海光机所 1985 扫描投影式 3μm

      IOE1010G 中科院光电所 1990 分步重复扫描投影式 1.5μm-2μm

      BG-101J 电科45所 1991 分步重复直接投影式 1.5μm-2μm

      BG-102 电科45所 1995 分步重复直接投影式 0.8μm

      无型号名 中科院光电所 1996 分步重复扫描投影式 0.8μm-1μm

      BG-105 电科45所 2000 分步重复扫描投影式 0.5μm-0.8μm

      其中贡献最大的电科45所的光刻机团队于2002年迁至上海,成立了上海微电子装备;

      中科院光电所和上海光机所,之后也根据02专项和五年计划,依旧从事光刻机整机或子系统的研发。

      2020/9/1 18:39:12

      我要发帖

      总页数11页 [共有2条记录] 分页:

      1
       对光刻机发展路线图回复