转载-80年代中期中国攻克3微米线宽集成电路的光刻机技术仅限于实验室

中国在1985年确实是成功攻克了3微米线宽集成电路的光刻机技术,配套的蚀刻机、cvd设备也都不缺。从表面上看,似乎已经能够生产3微米线宽的集成电路,这一技术除了美国以外,日本、德国和中国是并列世界第二。

但能这么说吗?显然不能。原因很简单没有自动控制技术。 国内当时生产的光刻机也好,其他生产设备也好,最多也就只能满足小规模生产和实验室应用。当时相关光学机械厂生产的国产光刻机,所有操作全部都要手动进行。生产一块芯片,效率甚至不足全自动光刻机的十分之一,而且极依赖工作人员操作水平。所以说这个3微米加工能力,也就是实验室水平,距离大规模应用恐怕还有一定距离。根本不能是世界第二梯队。

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