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上世纪部分国产光刻机:

型号名称 研发部门 交付时间 类型 制程

GK-3 电科45所 1977 半自动接触式 5μm-6μm

GK-4 电科45所 1978 半自动接触式 5μm-6μm

JK-1 上海光机所 1981 半自动接近式 2.25μm-3μm

KHA75-1 中科院109厂等 1981 半自动接近/接触式 无详细数据

BG-101 电科45所 1984 直接分步曝光 2μm

无型号名 上海光机所 1985 扫描投影式 3μm

IOE1010G 中科院光电所 1990 分步重复扫描投影式 1.5μm-2μm

BG-101J 电科45所 1991 分步重复直接投影式 1.5μm-2μm

BG-102 电科45所 1995 分步重复直接投影式 0.8μm

无型号名 中科院光电所 1996 分步重复扫描投影式 0.8μm-1μm

BG-105 电科45所 2000 分步重复扫描投影式 0.5μm-0.8μm

其中贡献最大的电科45所的光刻机团队于2002年迁至上海,成立了上海微电子装备;

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